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成都结晶抛光粉生产,客户满意是我们的服务宗旨

2019-12-07 03:42:01 161次浏览

价 格:面议

氧化铈抛光液 氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。 适用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

这两个概念主要出半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。

CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展,对抛光技术提出了新的要求,传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供“光滑”的表面,但却都是局部平面化技术,不能做到全局平面化,而化学机械抛光技术解决了这个问题,它是可以在整个硅圆晶片上全面平坦化的工艺技术。

乳化蜡用作皮革光亮剂、消光剂和手感剂等 人们对皮革制品的外观有两大类要求,一是增加皮革光泽, 如打光革、漆革、抛光效应革等;另一种是不要光泽感,使皮革呈现真皮感、自然美。前者需要用到光亮剂,后者需要用到消光剂。选用不同的蜡乳液用于皮革顶层涂饰时,有的可增加皮革光泽感或光亮度,有的可产生消光作用呈现真皮风韵。产生光亮作用的蜡乳液粒径要求很小,组成比较单一,在皮革表层形成一层均相且连续的蜡的薄膜,微观上薄膜很平滑,对光波产生较强烈的反射作用,从而具有光泽感;产生消光作用的蜡乳液粒径较大,在皮革表面形成一种非均相且微观上不平整的表面,对光波产生强烈的散射作用,散射作用是消光剂产生消光作用的根本原因。

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